1200度真空井式坩堝爐技術(shù)參數(shù) 招代理商廣泛應(yīng)用于高等院校，科研院所，工礦企業(yè)等實驗和小批量生產(chǎn)。真空井式坩堝爐以進口含鉬電阻絲或者硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和智能化程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，能快速升降溫，具有真空裝置，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點。

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廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2025-07-29
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產(chǎn)品詳情

1200度真空井式坩堝爐技術(shù)參數(shù) 招代理商SG2V-1-12TP真空井式坩堝爐是由石英坩堝或者氧化爐坩堝，和不銹鋼法蘭組成的真空坩堝爐。工作溫度區(qū)間800℃至1200℃。該系列設(shè)備的控制系統(tǒng)，具有安全可靠，操作簡單，控溫精度高，保溫效果好，爐膛溫度均勻性高，可通氣氛抽真空等特點，1200度真空井式坩堝爐技術(shù)參數(shù) 招代理商廣泛應(yīng)用于高等院校，科研院所，工礦企業(yè)等實驗和小批量生產(chǎn)。真空井式坩堝爐以進口含鉬電阻絲或者硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和智能化程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，能快速升降溫，具有真空裝置，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點。

主要用途：高校、科研院所、工礦企業(yè)主要用于煅燒真空或惰性氣體中的高純度化合物，退火或擴散半導體晶片，也可以用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料等。

產(chǎn)品型號	SG2V-1-12TP
工作電源	AC220V 50/60HZ
爐膛尺寸	外徑205x內(nèi)徑190x高340mm
額定功率	≤3kw
外形尺寸	450x550x650mm
重量	70kg
升溫快速度	0~30℃/min（建議不超過20℃）
產(chǎn)品特點	可裝真空裝置，能在多種氣氛下工作，50段程序控溫
加熱元件	含鉬電阻絲
常用溫度	≤1100℃
高溫度	1200℃
控溫方式	30段智能化程序PID模糊控制
恒溫精度	±1℃
控溫儀表	智能溫控儀
密封方式	全封閉
爐膛	氧化鋁多晶纖維爐膛，設(shè)計合理，經(jīng)久耐用，保溫性能好，節(jié)能
測溫元件	K型熱電偶
爐門結(jié)構(gòu)	上開式
主要配件	密封法蘭1套，坩堝1個，真空泵1臺，高溫手套1副,熱電偶1根等
大真空極限	≤0.1MPa
備注	可定制